| 照片 |  |
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| 名稱 | X射線繞射儀 | ||||||
| 英文名稱 | X-Ray Diffraction metrology | ||||||
| 功能說明 | 1.多晶薄膜繞射及鑑定分析 | ||||||
| 儀器服務項目 |
1.薄膜繞射 2.塊材繞射 3.高溫繞射量測(最高溫可達900℃) |
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| 儀器廠牌 | BRUKER | ||||||
| 型號 | D8 | ||||||
| 儀器規格 |
1.多晶薄膜繞射： 樣品準備：塊材樣品，0.5CM × 0.5CM 若為低略角建議試片大小 1CM x 1CM (膜厚：20~200nm) 2.Rocking curve： 樣品準備：磊晶薄膜樣品，大於1cm × 1cm (需已知欲測之繞射主峰角度 (2 Theta)，磊晶層數，各層大約厚度及成份) 3. 高溫繞射： 試片建議大小為 1.8cm x1.8cm ~ 2.8cm x 2.8cm之間 ，試片厚度不得超過 5mm， 測試材料不得為高分子或易揮發材料，請清楚知道自己的材料熔點為幾度，避免試片揮發或熔解於拍攝平台上。 本儀器最高溫度可達 900℃，最高溫速率 1℃/sec |
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| 主要配件 |
1.X-Ray Reflectometry (XRR) 2.High Resolution X-Ray Diffraction (HRXRD) 3.Grazing lncidence Diffraction (GID) 4.Anton Paar DHS 900 |
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| 樣品準備及收費 |
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| 注意事項 |
本儀器不接受粉體或不平整試片測定 |
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| 儀器放置位置 | Red Building 1F, Shared Micro-Nano Technology Laboratory - Measurement Room | ||||||
| 更新日期 | 2019/04/23 | ||||||
| 實驗室名稱 | 微奈米科技共用實驗室 | ||||||
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